EUV 리소그래피 양산 도달
2019ASML / TSMC
TSMC 7nm+가 ASML의 극자외선 장비를 쓴 첫 대량 양산 노드 — 7nm 이하를 연 도구.
가장 미세하고 집적된 칩, 누가 앞서나?
가장 직관적인 한 화면 — 로그 스케일에서 현재 위치를 최종 목표와 나란히.
주체별 현황 — 이 분야 안에서만 비교.
넘었나 / 못 넘었나가 분명한 사건들.
TSMC 7nm+가 ASML의 극자외선 장비를 쓴 첫 대량 양산 노드 — 7nm 이하를 연 도구.
2025년 3사 모두 2nm급 양산 진입(TSMC N2는 4분기); 수요가 공급을 초과해 파운드리 대기 장기화.
인텔 18A가 PowerVia 백사이드 전력을 양산 노드에 도입 — 경쟁사도 도입 중인 구조적 변화.
High-NA EUV를 쓰는 다음 프런티어(TSMC A14·인텔 14A·삼성 SF1.4) — 2028년경 목표, 아직 미도달.
모든 수치는 1차 출처로 연결되며, 자체 점수는 없습니다. 트래커 숫자는 중립이고 분석은 별도로 라벨링됩니다.